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納米氫氧化鎂研磨分散機

簡要描述:

納米(mi)氫(qing)氧化(hua)(hua)鎂(mei)研磨(mo)分(fen)散機,SGN納米(mi)氫(qing)氧化(hua)(hua)鎂(mei)研磨(mo)式分(fen)散機,是(shi)由膠體磨(mo)+高剪切分(fen)散機組成,形成一體化(hua)(hua)的(de)設備,先研磨(mo)后分(fen)散,避免物料團聚。

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納米氫氧化鎂研磨分散機

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氫氧化鎂是(shi)塑料、橡膠制(zhi)品優良(liang)的阻燃劑(ji)。在環保(bao)方(fang)面作(zuo)為煙道氣脫(tuo)硫劑(ji),可代替燒堿(jian)和石灰作(zuo)為含酸廢水的中和劑(ji)。亦用(yong)作(zuo)油品添加劑(ji),起到防腐和脫(tuo)硫作(zuo)用(yong)。另外,還可用(yong)于電子(zi)行業、醫藥、砂(sha)糖的精制(zhi),作(zuo)保(bao)溫材(cai)料以及制(zhi)造其他鎂鹽產


   在幾(ji)乎不影響(xiang)使(shi)用強度的情(qing)況下顯(xian)著(zhu)提高材料(liao)的阻燃(ran)、抑煙、防滴等性能,還可根據(ju)客(ke)戶需要,在納米氫氧(yang)化(hua)鎂生成同時采用適當的原位改性方法,為阻燃(ran)氫氧(yang)化(hua)鎂。

納米氫氧化鎂一般作為改性(xing)劑分散(san)到某(mou)物質當中(如橡膠),從(cong)而改性(xing)物料的特性(xing),z大的用途便是作為助燃劑。改性的效果取決于納米氫氧化鎂的分散效果。納米級的粉末分散到液體介質當中容易出現團聚現象,一般的分散設備無法解決這一難點,而SGN研磨式分散機可以很好的應對團聚的現象。
 

SGN納米氫氧化鎂分散機,是由膠體磨+高剪切分散機組成,形成一體化的設備,先研磨后分散,避免物料團聚。


GMD2000系列研磨(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)設備是SGN(上海)公司經(jing)過(guo)研究剛剛研發出來的(de)一款新型產品,該機特別適合于需要研磨(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)乳(ru)化(hua)(hua)均(jun)質一步到(dao)位的(de)物(wu)料(liao)(liao)。我(wo)(wo)們(men)(men)將三(san)級(ji)高(gao)剪切均(jun)質乳(ru)化(hua)(hua)機進行(xing)改裝,我(wo)(wo)們(men)(men)將三(san)級(ji)變跟(gen)為一級(ji),然(ran)后在乳(ru)化(hua)(hua)頭(tou)上面加配了膠(jiao)體(ti)(ti)(ti)磨(mo)磨(mo)頭(tou),使物(wu)料(liao)(liao)可以先經(jing)過(guo)膠(jiao)體(ti)(ti)(ti)磨(mo)細(xi)化(hua)(hua)物(wu)料(liao)(liao),然(ran)后再經(jing)過(guo)乳(ru)化(hua)(hua)機將物(wu)料(liao)(liao)分(fen)(fen)(fen)散(san)乳(ru)化(hua)(hua)均(jun)質。膠(jiao)體(ti)(ti)(ti)磨(mo)可根(gen)據物(wu)料(liao)(liao)要求進行(xing)更換(我(wo)(wo)們(men)(men)提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳(ru)化(hua)(hua)頭(tou)供客戶選擇)


GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。


*級由具有精細度遞(di)升的(de)三(san)級鋸齒(chi)突起和凹(ao)槽。定子可以無限制的(de)被調整(zheng)到所需要的(de)與轉子之間的(de)距離(li)。在(zai)增強的(de)流體(ti)湍流下,凹(ao)槽在(zai)每級都可以改變方向(xiang)。


?第二級由轉定(ding)子組成。分(fen)散(san)頭(tou)(tou)的(de)(de)(de)設(she)(she)計也很好地(di)滿足不(bu)(bu)同粘(zhan)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)物質以及顆粒粒徑的(de)(de)(de)需要(yao)(yao)(yao)。在線式的(de)(de)(de)定(ding)子和(he)(he)轉子(乳化頭(tou)(tou))和(he)(he)批次(ci)式機器的(de)(de)(de)工作頭(tou)(tou)設(she)(she)計的(de)(de)(de)不(bu)(bu)同主(zhu)要(yao)(yao)(yao)是(shi)(shi)因為(wei) 在對輸送性的(de)(de)(de)要(yao)(yao)(yao)求(qiu)方(fang)面(mian),特(te)別要(yao)(yao)(yao)引(yin)起注(zhu)意的(de)(de)(de)是(shi)(shi):在粗精度(du)(du)(du)、中等精度(du)(du)(du)、細精度(du)(du)(du)和(he)(he)其(qi)他(ta)一些工作頭(tou)(tou)類型之間的(de)(de)(de)區別不(bu)(bu)光是(shi)(shi)轉子齒(chi)的(de)(de)(de)排列,還有一個很重要(yao)(yao)(yao)的(de)(de)(de)區別是(shi)(shi) 不(bu)(bu)同工作頭(tou)(tou)的(de)(de)(de)幾(ji)何(he)學特(te)征不(bu)(bu)一樣。狹槽數、狹槽寬度(du)(du)(du)以及其(qi)他(ta)幾(ji)何(he)學特(te)征都能改變定(ding)子和(he)(he)轉子工作頭(tou)(tou)的(de)(de)(de)不(bu)(bu)同功能。

 

GMD2000系列(lie)研磨分(fen)散設備選型表

 

型號

流量(liang)

L/H

轉速

rpm

線(xian)速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125


 

產品相關關鍵字: 氫氧化鎂分散機 納米分散機 納米研磨分散機

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