顏料研磨分散設備
GMD2000系(xi)列顏(yan)料研磨(mo)分散設備(bei)的(de)(de)線(xian)速度很高，剪切間隙非常小，這(zhe)樣(yang)當物料經過的(de)(de)時候，形(xing)成的(de)(de)摩擦力就比(bi)較(jiao)劇烈，結果(guo)就是(shi)通常所說的(de)(de)濕磨(mo)。定(ding)轉(zhuan)子被(bei)制(zhi)成圓椎(zhui)形(xing)，具(ju)有精細度遞升的(de)(de)多(duo)級(ji)鋸齒(chi)突起和(he)(he)凹槽。定(ding)子可(ke)以(yi)無限制(zhi)的(de)(de)被(bei)調整(zheng)到所需要(yao)的(de)(de)與轉(zhuan)子之間的(de)(de)距離。在(zai)(zai)增強的(de)(de)流體湍流下，凹槽在(zai)(zai)每級(ji)都可(ke)以(yi)改變方向。高質量的(de)(de)表面拋(pao)光和(he)(he)結構材料，可(ke)以(yi)滿足不(bu)同行業的(de)(de)多(duo)種要(yao)求。
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