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顏料研磨分散設備

簡要描述:

GMD2000系列顏料研磨分散設備的(de)線速度(du)很高,剪切(qie)間隙非常小(xiao),這樣(yang)當物料經過的(de)時候,形(xing)(xing)成的(de)摩(mo)擦力就比較劇烈,結果(guo)就是通(tong)常所說的(de)濕磨。定(ding)轉子被(bei)制成圓椎形(xing)(xing),具(ju)有精細度(du)遞(di)升的(de)多(duo)級鋸齒突(tu)起和凹槽(cao)。定(ding)子可(ke)以(yi)無限制的(de)被(bei)調整到所需要(yao)(yao)的(de)與轉子之間的(de)距離。在增強(qiang)的(de)流體(ti)湍流下,凹槽(cao)在每級都可(ke)以(yi)改(gai)變方向。高質量的(de)表(biao)面拋光和結構材料,可(ke)以(yi)滿足不同(tong)行業(ye)的(de)多(duo)種要(yao)(yao)求(qiu)。

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顏料研磨分散設備

顏料研磨分散設備,顏料研磨分散機,顏(yan)料分(fen)散機,顏料砂磨(mo)機(ji),顏料三棍(gun)研磨機,顏料球磨機  顏料研磨(mo)分散(san)機 

zui高轉(zhuan)速可(ke)以(yi)達到(dao)14000RPM。此款(kuan)研(yan)磨(mo)分散(san)機比普通的(de)分散機機(ji)的速(su)度達到4-5倍以上,分散(san)乳化均(jun)質研磨效果非常好。

 

幾種顏料研磨分(fen)散(san)設備的比較  

以天然(ran)石英砂、玻璃珠或陶瓷珠子分(fen)散(san)介質(zhi)的砂磨機,對于細顆粒而又易分(fen)散(san)的合成顏(yan)料、粗(cu)顆(ke)粒或(huo)微粉化的(de)天然顏料和(he)填料等(deng)易流動的(de)漆(qi)漿,都是高效的(de)分(fen)散(san)設備。其(qi)生產能(neng)力高、分(fen)散(san)精(jing)度好、能(neng)耗低、噪(zao)音小,溶劑揮發少、結構簡單、便于(yu)維護、能(neng)連(lian)續(xu)生產。因此,在多種類型的(de)磁漆(qi)和(he)底(di)漆(qi)生產中獲得了廣泛的(de)應用。但是,它(ta)不適用于(yu)生產膏狀(zhuang)或厚漿型的(de)懸(xuan)浮分(fen)散(san)體,用于(yu)加(jia)工炭(tan)黑等(deng)細顆粒(li)而難分(fen)散(san)的(de)合成顏料(liao)時生產(chan)效率低,用于(yu)生產(chan)磨蝕性顏料時(shi)(shi)則(ze)易于磨損,這些因(yin)素都應在選用設備時(shi)(shi)結合具體情況予以(yi)考(kao)慮。

 

球磨機同樣也適用(yong)于(yu)分散易流動的懸浮分散體系,它適用(yong)于(yu)分散任(ren)何品種的顏(yan)料,對于分散粗顆(ke)粒的(de)顏料、填料、磨(mo)蝕性顏料和細顆粒又(you)難分散的合成顏料有(you)著突出的效果。臥式球(qiu)磨機由(you)于(yu)密閉操作,故適用于(yu)要求防(fang)止溶劑(ji)揮發(fa)及含**物的(de)產品。由于其研磨細度(du)難以(yi)達到(dao)15um以下,且清洗(xi)換(huan)色(se)困難,故不(bu)適于加工高精度的(de)漆(qi)漿(jiang)及經常(chang)調換(huan)花(hua)色(se)品種的(de)場合。

三(san)輥(gun)機生產(chan)能力一(yi)般較(jiao)低(di)、結構復雜,手(shou)工操(cao)作勞(lao)動強(qiang)度(du)大、敞開操(cao)作溶劑揮發損失大,故應(ying)用范圍受到(dao)一(yi)定(ding)限(xian)制。但(dan)是(shi)它適(shi)用于(yu)高粘度(du)漆(qi)漿(jiang)和(he)厚漿(jiang)型產(chan)品(pin)的特點為砂(sha)磨機和(he)球磨機所不(bu)及(ji)。因(yin)而被廣泛用于(yu)厚漆(qi)、膩(ni)子及(ji)部分厚漿(jiang)狀美術漆(qi)生產(chan)。

三輥機易于加(jia)工(gong)細顆粒而又(you)難分(fen)散的合成顏料及細(xi)度要(yao)求為(wei)5—10um的高精度(du)產品。目前對于某些貴(gui)重顏(yan)料,一些廠家為充分發揮其著色力、遮蓋力等顏料特性,以(yi)節省(sheng)用量(liang),往往采用三輥機研磨之。由于(yu)三輥(gun)機(ji)中不(bu)等速運轉的兩輥(gun)之間能產生(sheng)巨大的剪切力(li),導致高固(gu)體(ti)含量的漆料對顏料濕潤充分,從而有利于(yu)(yu)獲得較(jiao)好的產品質(zhi)量(liang),因而被一些廠家用(yong)來生產高質(zhi)量(liang)的面漆(qi)(qi)。除此之外,由于(yu)(yu)三輥(gun)機(ji)清洗(xi)換色比較(jiao)方便(bian),也常(chang)和砂磨機(ji)配合應用(yong),用(yong)于(yu)(yu)制造復(fu)色磁(ci)漆(qi)(qi)用(yong)的少量(liang)調色漆(qi)(qi)。

   因為好多漿料(liao)如油墨(mo),顏料 單(dan)用一(yi)種膠體磨或分散(san)機是無法達到客戶所要求的理想(xiang)粒徑要求已經分散效(xiao)果要求。SGN客(ke)戶在SGN實(shi)(shi)驗室實(shi)(shi)驗室做完實(shi)(shi)驗后經常會遇到這樣的痛苦,物料(liao)已經用N多種(zhong)國產研磨設(she)備處理過了,達(da)不(bu)到效果,zui后放(fang)下國產(chan)設(she)備的價格(ge)優勢找(zhao)到中德合作的SGN,雖(sui)然SGN研磨(mo)分散設備制造精密,但(dan)也不是萬能的,在客戶(hu)要求(qiu)SGN重新做(zuo)處(chu)理(li)方案時,SGN研發(fa)工(gong)程(cheng)師(shi)協(xie)同(tong)客(ke)戶(hu)一起研發(fa)出了(le)研磨(mo)分(fen)散機SGN公司(si)總為(wei)研磨分散機定型號為GMD2000系列(lie)。研磨分散機的研制,成功解(jie)決(jue)了(le)原有設(she)備粒徑(jing)處理不理想的問題(ti)。一方面解(jie)決(jue)清洗(xi)難得問題(ti),二(er)來(lai)解(jie)決腐蝕問題,

 

   研磨分散設(she)備的類型是決定(ding)色漆(qi)生產工(gong)藝過(guo)程(cheng)的關鍵。選用的研磨(mo)分散(san)設(she)備不(bu)同,工藝過程也不(bu)同。例(li)如砂(sha)磨機(ji)分散(san)工藝,一般需要在附有高速(su)分(fen)散(san)機的(de)預混合(he)罐(guan)中進行研磨漆(qi)漿的預混合,再以砂磨機研(yan)磨分散至細度合格。由于砂磨機(ji)研(yan)磨漆(qi)漿(jiang)粘度較(jiao)低,易于(yu)流動,大(da)批量(liang)生產時(shi)可以機械泵為動力,通過管(guan)道進(jin)行(xing)輸送(song);小(xiao)批量(liang)多品種生產也可以用(yong)容器移(yi)動的方式(shi)進(jin)行(xing)漆(qi)漿(jiang)的轉移(yi)。球(qiu)蘑機工藝的配料預混合與研磨(mo)分散則在球(qiu)磨筒**一(yi)并進(jin)行,研(yan)磨漆(qi)漿(jiang)(jiang)(jiang)可用(yong)(yong)管道輸送(以(yi)機械泵或靜(jing)位差為動力)和活(huo)(huo)動容(rong)器運送兩種方式。三輥機分散(san)因漆(qi)漿(jiang)(jiang)(jiang)較(jiao)稠,故一般用(yong)(yong)換罐式攪(jiao)拌(ban)混(hun)合,以(yi)活(huo)(huo)動容(rong)器運送的方式實現漆(qi)漿(jiang)(jiang)(jiang)的傳送。

 顏(yan)料研磨分散機 

納米(mi)研磨分散(san)設備   

 

研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦(ca)力或沖擊力(impact force)將粉(fen)體由大顆(ke)粒粉(fen)碎成小顆(ke)粒。

分(fen)(fen)散:納米粉體被其所添(tian)加溶劑、助(zhu)劑、分(fen)(fen)散劑、樹脂等(deng)包覆(fu)住,以便達到顆粒*被分(fen)(fen)離(li)(separating)、潤(run)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩定(stabilization)目的。

在做(zuo)納米粉體分散或研磨時(shi),因(yin)為粉體(ti)尺(chi)度由(you)大變小的過程中,范德華(hua)力(li)及(ji)布朗運動現(xian)象逐漸明顯且重要(yao)。選(xuan)擇(ze)適當助(zhu)劑以避免粉體(ti)再(zai)次凝(ning)聚及(ji)選(xuan)擇(ze)適當的研磨機來控制研磨(mo)漿料溫(wen)度以降低或避(bi)免布朗運動影響(xiang),是濕法研磨分(fen)散方(fang)法能否(fou)成功地得到納米級粉體(ti)研磨及分散關鍵技(ji)術。
    

    納米研(yan)磨分散(san)機是由膠體磨,分(fen)散機組(zu)合而成的高科技(ji)產品。 

    *級由(you)具(ju)有精細度遞(di)升的(de)級鋸齒突起和凹(ao)槽。定子(zi)可以無限制的(de)被調整到所需要的(de)與轉子(zi)之間的(de)距離。在增(zeng)強的(de)流(liu)體(ti)湍流(liu)下(xia),凹(ao)槽在每(mei)級都可以改變方向(xiang)。

    第二級由轉定子組成。分(fen)散頭(tou)的(de)(de)(de)(de)設計(ji)也很(hen)好地滿(man)足不同(tong)粘(zhan)度(du)的(de)(de)(de)(de)物質以及(ji)顆粒(li)粒(li)徑的(de)(de)(de)(de)需要(yao)(yao)。在線式(shi)的(de)(de)(de)(de)定子和(he)轉子(乳(ru)化頭(tou))和(he)批次式(shi)機器的(de)(de)(de)(de)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)設計(ji)的(de)(de)(de)(de)不同(tong)主要(yao)(yao)是(shi)因為在對(dui)輸送性的(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求方面,特別(bie)要(yao)(yao)引起注意的(de)(de)(de)(de)是(shi):在粗精度(du)、中等(deng)精度(du)、細精度(du)和(he)其(qi)他一些工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)類型之(zhi)間的(de)(de)(de)(de)區別(bie)不光是(shi)轉子齒的(de)(de)(de)(de)排列,還有(you)一個很(hen)重要(yao)(yao)的(de)(de)(de)(de)區別(bie)是(shi)不同(tong)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)的(de)(de)(de)(de)幾何學特征(zheng)不一樣。狹槽數、狹槽寬度(du)以及(ji)其(qi)他幾何學特征(zheng)都能(neng)改變定子和(he)轉子工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)的(de)(de)(de)(de)不同(tong)功能(neng)。根據(ju)以往(wang)的(de)(de)(de)(de)慣(guan)例,依據(ju)以前的(de)(de)(de)(de)經驗(yan)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)來(lai)滿(man)足一個具體(ti)的(de)(de)(de)(de)應用。在大(da)多數情況下,機器的(de)(de)(de)(de)構造(zao)(zao)是(shi)和(he)具體(ti)應用相匹配的(de)(de)(de)(de),因而它對(dui)制造(zao)(zao)出zui終(zhong)產品是(shi)很(hen)重要(yao)(yao)。當不確定一種(zhong)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)頭(tou)的(de)(de)(de)(de)構造(zao)(zao)是(shi)否滿(man)足預期的(de)(de)(de)(de)應用。

GMD2000系列的(de)(de)(de)線速度很(hen)高,剪切間隙非(fei)常(chang)小,這樣當物(wu)料經過(guo)的(de)(de)(de)時候(hou),形成(cheng)(cheng)的(de)(de)(de)摩(mo)擦力就比較(jiao)劇烈,結(jie)(jie)果就是通常(chang)所(suo)(suo)說的(de)(de)(de)濕磨。定轉(zhuan)子被制(zhi)(zhi)成(cheng)(cheng)圓椎形,具有精細度遞(di)升的(de)(de)(de)多級(ji)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限(xian)制(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)被調整到所(suo)(suo)需(xu)要(yao)的(de)(de)(de)與轉(zhuan)子之間的(de)(de)(de)距離(li)。在增強的(de)(de)(de)流體湍流下,凹槽在每級(ji)都(dou)可以改變方向。高質量(liang)的(de)(de)(de)表(biao)面拋光(guang)和結(jie)(jie)構(gou)材料,可以滿足不(bu)同(tong)行業(ye)的(de)(de)(de)多種要(yao)求。

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