GMD2000系(xi)列SGN納米研(yan)磨機(ji)分散(san)機(ji)是SGN(上海)公司經(jing)過(guo)研(yan)究剛剛研(yan)發出來(lai)的一(yi)款新型(xing)產品,該機(ji)特(te)別適合于需要研(yan)磨分散(san)乳(ru)化(hua)均(jun)質(zhi)一(yi)步到位的物(wu)料(liao)。我(wo)們(men)將三級高剪切均(jun)質(zhi)乳(ru)化(hua)機(ji)進(jin)行改(gai)裝(zhuang),我(wo)們(men)將三級變更為一(yi)級,然(ran)后(hou)在(zai)乳(ru)化(hua)頭(tou)上面加配了膠體(ti)磨磨頭(tou),使(shi)物(wu)料(liao)可以先經(jing)過(guo)膠體(ti)磨細化(hua)物(wu)料(liao),然(ran)后(hou)再經(jing)過(guo)乳(ru)化(hua)機(ji)將物(wu)料(liao)分散(san)乳(ru)化(hua)均(jun)質(zhi)。
SGN納米研磨機分散機,無機納米高速分散設備,德國研磨分散設備,無機材料納米高速研磨機分散機,進口研磨分散機
SGN合作的伙伴中,有做納(na)米(mi)(mi)白炭(tan)黑、鋰(li)電池陶(tao)瓷隔膜、氧化鋁陶(tao)瓷、納(na)米(mi)(mi)硫酸鋇膠體、蒙脫石(shi)、硅藻土、凹凸棒(bang)、高(gao)粘(zhan)土、珍珠粉、石(shi)墨烯、碳納(na)米(mi)(mi)管、碳纖維等(deng)種(zhong)類(lei)眾多的物料,他們(men)均對SGN的研磨(mo)分(fen)散機做出了很高(gao)的評價(jia)。使(shi)用SGN研磨(mo)分(fen)散設備可以(yi)正(zheng)常地將物料粒(li)徑控制在(zai)微(wei)納(na)米(mi)(mi)級,并且不(bu)會發生團聚現(xian)象(xiang)。
SGN研磨分(fen)散(san)機采用(yong)技(ji)術,*的結構設(she)計,適合物料(liao)研磨分(fen)散(san)一步到(dao)位的處理(li),此款(kuan)設(she)備轉(zhuan)速高(gao)達14000rpm,剪(jian)切力高(gao),分(fen)散(san)效(xiao)果(guo)好(hao)。
例如作為鋰電池四大材料之一的隔膜,盡管并不參與電池中的電化學反應,但卻是鋰電池中關鍵的內層組件。電池的容量、循環性能和充放電電流密度等關鍵性能都與隔膜有著直接的關系,隔膜性能的改善對提高鋰電池的綜合性能起著重要作用。
在鋰電池中,隔膜吸收電解液后,可隔離正、負極,以防止短路,但同時還要允許鋰離子的傳導。而在過度充電或者溫度升高時,隔膜還要有高溫自閉性能,以阻隔電流。不僅如此,鋰電池隔膜還要有強度高、防火、耐化學試劑、耐酸堿腐蝕性、生物相容性好、無毒等特點。鋰電池陶瓷隔膜漿料的隔膜效果,一般取決于隔膜漿料的粒徑,粒徑越小隔膜效果越好。鋰電池陶瓷隔膜漿料一般為氧化鋁或者納米級二氧化硅,分散到水中或者溶劑當中,難以分散,容易團聚。傳統高速分散機或者砂磨機很難解決這種問題,而上海思峻研磨式分散機很好的解決了這一難題。
以下氧化鋁陶瓷隔膜漿料檢測粒徑報告(均粒徑在10μm以下):
再如納米白(bai)炭黑
白炭黑是一種超細微具有活性的二氧化硅粒子, 化學名稱為水合無定形二氧化硅或膠體二氧化 硅, 是一種重要的精細無機化工產品. 根據制備方 法的不同, 白炭黑分為氣相法白炭黑和沉淀法白炭 黑. 氣相法白炭黑主要采用四氯化硅在氫氧火焰中 高溫水解而制備, 沉淀法白炭黑主要采用硅酸鈉與 無機酸中和沉淀反應而制備。
其(qi)(qi)具(ju)有(you)特(te)(te)殊(shu)的(de)(de)(de)表(biao)(biao)面結構( 帶(dai)有(you)表(biao)(biao)面羥基和 吸(xi)附(fu)水(shui)) 、 特(te)(te)殊(shu)的(de)(de)(de)顆(ke)粒形(xing)態( 粒子小, 比表(biao)(biao)面積大等(deng)) 和*的(de)(de)(de)物理化學性(xing)能, 廣泛應用于橡膠(jiao)、 塑(su)料、 涂 料、 醫藥、 日用化工諸多領域. 然(ran)而, 由于白炭黑內(nei)部(bu)的(de)(de)(de)聚(ju)硅氧和外表(biao)(biao)面存在(zai) 的(de)(de)(de)活性(xing)硅醇基及其(qi)(qi)吸(xi)附(fu)水(shui), 使其(qi)(qi)呈親水(shui)性(xing), 在(zai)有(you)機(ji) 相中難以濕(shi)潤和分散, 而且(qie), 由于其(qi)(qi)表(biao)(biao)面存在(zai)羥基, 表(biao)(biao)面能較(jiao)大, 聚(ju)集體總傾向于凝聚(ju)。
以下納米白炭黑檢測粒徑報告(均粒徑在397nm以下):
SGN研磨式分(fen)散機(ji)(ji)是由(you)高剪(jian)切膠體磨和(he)高剪(jian)切分(fen)散機(ji)(ji)結(jie)合而(er)成,先研磨后分(fen)散機(ji)(ji),很好的解決了鋰電(dian)池陶瓷隔膜研磨分(fen)散的問題。
(本公司有樣機供參觀實驗,錢, )
GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
*級(ji)由具有精細度遞升的(de)(de)三級(ji)鋸齒(chi)突起和凹槽(cao)。定子(zi)可以(yi)無限(xian)制(zhi)的(de)(de)被調整到(dao)所需要(yao)的(de)(de)與(yu)轉子(zi)之間的(de)(de)距離。在(zai)增(zeng)強的(de)(de)流(liu)體湍流(liu)下(xia),凹槽(cao)在(zai)每(mei)級(ji)都可以(yi)改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
以下為GMD2000系列(lie)選型表:
型(xing)號 | 流量 L/H | 轉速(su) rpm | 線速度 m/s | 功(gong)率(lv) kw | 入/出口連接(jie) DN |
| |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 4 | DN25/DN15 |
| |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
| |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
| |
| 流(liu)量取決于(yu)設置的間隙和被處理物(wu)料的特性(xing),同時流(liu)量可以(yi)被調節到zui大允(yun)許量的10%。
|
SGN納米研磨機分散機,無機納米高速分散設備,德國研磨分散設備,無機材料納米高速研磨機分散機,進口研磨分散機
(本公司有樣機供參觀實驗,錢, )
產品相關關鍵字: 無機材料研磨機分散機 納米分散設備 德國研磨分散設備 納米高速研磨機分散機 進口研磨分散機