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納米醫藥混懸劑超高速剪切研磨均質機

簡要描述:

納(na)米醫藥混懸(xuan)劑(ji)超高(gao)速剪切研磨均質機(ji)設計*,能夠延(yan)長易損件的使(shi)用(yong)時間(jian),因(yin)此尤其適合高(gao)硬度和高(gao)純度物(wu)料的粉(fen)(fen)碎。可(ke)以(yi)(yi)一機(ji)多用(yong),也可(ke)以(yi)(yi)單獨使(shi)用(yong),且粉(fen)(fen)碎粒度范圍廣,成品粒徑可(ke)以(yi)(yi)進行調整。混懸(xuan)液是指(zhi):以(yi)(yi)固體顆粒分散于分散媒中,顆粒與分散媒之間(jian)有相界面,稱為(wei)混懸(xuan)液。

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納米醫藥混懸劑超高速剪切研磨均質機

一、產品概述(shu)

納米醫藥混懸劑超高速剪切研磨均質機,混懸劑均質機,納米醫藥混懸液分散機,納米高剪切分散機,納米混懸液制備設備,納米混懸液分散機,進口分散機,分散機廠家,分散機價格

二、產(chan)品簡介

納米醫藥混懸劑超高速剪切研磨均質機設計*,能夠延(yan)長易損件的使用時間,因此尤其適(shi)合高硬度和高純度物料的粉碎。可(ke)以(yi)(yi)一機(ji)多(duo)用,也可(ke)以(yi)(yi)單獨使用,且粉碎粒(li)度范(fan)圍廣,成(cheng)品粒(li)徑可(ke)以(yi)(yi)進行調整。混懸液(ye)是指:以(yi)固(gu)體顆粒分(fen)散于分(fen)散媒(mei)中,顆粒與分(fen)散媒(mei)之間有相(xiang)界面,稱為(wei)混懸液(ye)。

混懸液的貯存存在物理穩(wen)定(ding)性(xing)問題(ti)。混懸液中藥物微粒分散度大 ,微粒與分散介質(zhi)之(zhi)間(jian)(jian)存(cun)在(zai)著物理界面(mian)(mian),是混懸(xuan)(xuan)微粒具有較高的(de)表面(mian)(mian)自由能,混懸(xuan)(xuan)劑處于(yu)不穩定(ding)狀態。疏(shu)水性(xing)藥(yao)物的(de)混懸(xuan)(xuan)劑比親水性(xing)藥(yao)物存(cun)在(zai)更大的(de)穩定(ding)性(xing)問題。若(ruo)要制得沉降緩慢的(de)混懸(xuan)(xuan)液,應減少(shao)(shao)顆粒的(de)大小,增加分散劑的(de)粘度及減少(shao)(shao)固液間(jian)(jian)的(de)密度差。

納米醫藥混懸(xuan)液(ye)分散機,高剪切條件下的混懸(xuan)液(ye),高速(su)通過工作腔定轉(zhuan)(zhuan)子間(jian)(jian)隙(xi),由于轉(zhuan)(zhuan)子高速(su)轉(zhuan)(zhuan)動,物(wu)料在定轉(zhuan)(zhuan)子間(jian)(jian)隙(xi)內,高速(su)撞擊、剪切等綜(zong)合效應(ying),將較大的顆粒(li)粉(fen)碎成很小的微粒(li),它(ta)們(men)的直徑在0.01-2μm范(fan)圍內。這個(ge)純(chun)粹的物(wu)理過程保持產品原有(you)的活(huo)性,與(yu)此同(tong)時,細化了顆粒,獲得相對穩(wen)定的混懸液。

三、納(na)米高剪切分散機的(de)特點

1具有(you)非常高的剪切速(su)度和(he)剪切力(li),粒徑(jing)約為(wei)0.2-2微米可以確(que)保高(gao)速分散(san)乳化的穩定性。

2該設備(bei)可(ke)以(yi)適(shi)用于(yu)各(ge)種分散乳(ru)化工(gong)藝,也可(ke)用于(yu)生產包括(kuo)對乳(ru)狀(zhuang)液、懸浮液和(he)膠體的分散混合。

3三(san)級分(fen)散機由定、轉子系統所產生的(de)剪切力使(shi)得溶(rong)質(zhi)轉移速(su)度增加,從而使(shi)單一分(fen)子和宏(hong)觀分(fen)子媒介(jie)的(de)分(fen)解加速(su)。

           

GMD2000系列研(yan)磨分散(san)機的結構:研(yan)磨式分散(san)機是由錐(zhui)體磨,分散(san)機組合而成的高科技產品。

yi級由具有精細(xi)度遞(di)升的(de)三級鋸(ju)齒突起和凹槽。定(ding)子可以無限制(zhi)的(de)被調整到所需要的(de)與轉(zhuan)子之(zhi)間(jian)的(de)距離。在增強的(de)流體(ti)湍流下,凹槽在每級都可以改(gai)變方向。

第二(er)級由轉(zhuan)(zhuan)定子(zi)組成。分(fen)散頭(tou)的(de)設計也很好地滿足(zu)不同粘度(du)的(de)物質以(yi)及(ji)顆粒(li)粒(li)徑的(de)需要。在(zai)線式(shi)的(de)定子(zi)和轉(zhuan)(zhuan)子(zi)(乳化頭(tou))和批次式(shi)機器的(de)工作頭(tou)設計的(de)不同主要是(shi)因為(wei) 在對輸送性的(de)(de)(de)要求方面,特(te)別(bie)要引起注意的(de)(de)(de)是(shi):在粗精(jing)度、中(zhong)等精(jing)度、細精(jing)度和其他一些工(gong)作頭類型之間(jian)的(de)(de)(de)區(qu)別(bie)不光是(shi)轉子齒的(de)(de)(de)排列,還有一個(ge)很重(zhong)要的(de)(de)(de)區(qu)別(bie)是(shi) 不(bu)同工作頭(tou)的(de)(de)幾(ji)何(he)學特(te)征不(bu)一樣。狹(xia)槽數、狹(xia)槽寬度以及其他幾(ji)何(he)學特(te)征都能改變定子(zi)和轉子(zi)工作頭(tou)的(de)(de)不(bu)同功能。根據(ju)以往的(de)(de)慣(guan)例,依據(ju)以前(qian)的(de)(de)經驗工作頭(tou)來滿(man) 足一(yi)個(ge)具體的(de)應用。在大多數情況(kuang)下,機器的(de)構造是和(he)具體應用相匹(pi)配的(de),因而(er)它對制造出zui終產品是(shi)很(hen)重要。當不確(que)定一種工作頭(tou)的構造(zao)是(shi)否滿足預期(qi)的應用。

 

四、GMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連(lian)接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置(zhi)的間隙和被(bei)處理物料的特性,可以被(bei)調節到(dao)zui大允(yun)許量(liang)的10%

 

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