GMD2000系(xi)列高(gao)剪(jian)(jian)切(qie)高(gao)速(su)(su)吡(bi)喹酮混懸液(ye)(ye)研磨分散機(ji)具有非常高(gao)的(de)剪(jian)(jian)切(qie)速(su)(su)度和(he)剪(jian)(jian)切(qie)力,粒徑微米(mi)級0.2-2μm,可(ke)(ke)以(yi)確保高(gao)速(su)(su)分散乳化的(de)穩定性。該(gai)設備可(ke)(ke)以(yi)適用于(yu)各(ge)種分散乳化工藝,也(ye)可(ke)(ke)用于(yu)生產包括對乳狀液(ye)(ye),懸浮液(ye)(ye)和(he)膠體的(de)均(jun)質混合。混懸液(ye)(ye)分散乳化機(ji)由定/轉(zhuan)子(zi)系(xi)統生的(de)剪(jian)(jian)切(qie)力使(shi)得溶(rong)質轉(zhuan)移速(su)(su)度增加,從而使(shi)單一分子(zi)和(he)宏觀分子(zi)媒(mei)介(jie)的(de)分解加速(su)(su)。
高(gao)(gao)剪切高(gao)(gao)速(su)吡喹酮混懸液(ye)研(yan)磨分散機(ji),藥物(wu)懸(xuan)液研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)(san)(san)機(ji),管線(xian)式研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)(san)(san)機(ji),超高速(su)研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)(san)(san)機(ji),高剪(jian)切醫藥級研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)(san)(san)機(ji),三級納米研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)(san)(san)機(ji),SGN研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)(fen)散(san)(san)(san)(san)機(ji)
本(ben)發(fa)明(ming)(ming)公開(kai)了一種含(han)伊(yi)維(wei)菌(jun)素和(he)(he)吡(bi)(bi)喹(kui)酮的(de)獸用(yong)(yong)復方(fang)(fang)混(hun)懸注射液(ye)及其制備方(fang)(fang)法。本(ben)發(fa)明(ming)(ming)獸用(yong)(yong)復方(fang)(fang)混(hun)懸注射液(ye)的(de)有效成分(fen)為伊(yi)維(wei)菌(jun)素和(he)(he)吡(bi)(bi)喹(kui)酮。其制備方(fang)(fang)法包括以(yi)下(xia)步驟:1)取助懸劑(ji)、抗氧(yang)化劑(ji)和(he)(he)防腐劑(ji)溶(rong)于或(huo)分(fen)散于3-20%的(de)熱分(fen)散媒(mei)中,得到A液(ye);2)取配方(fang)(fang)量(liang)30-90%的(de)分(fen)散媒(mei)倒入(ru)(ru)(ru)膠體(ti)磨中,啟動膠體(ti)磨,然(ran)后(hou)緩(huan)緩(huan)加(jia)入(ru)(ru)(ru)上述(shu)A液(ye),待全部(bu)加(jia)入(ru)(ru)(ru)*,邊攪(jiao)拌邊加(jia)入(ru)(ru)(ru)潤(run)濕劑(ji);3)待全部(bu)輔料加(jia)入(ru)(ru)(ru)*,依次(ci)加(jia)入(ru)(ru)(ru)伊(yi)維(wei)菌(jun)素和(he)(he)吡(bi)(bi)喹(kui)酮,然(ran)后(hou)采(cai)用(yong)(yong)循環研磨和(he)(he)非循環研磨相交(jiao)替(ti)的(de)方(fang)(fang)式進行(xing)研磨;4)檢查顆粒細(xi)度,符合(he)要(yao)求后(hou)停止研磨,加(jia)分(fen)散媒(mei)至配方(fang)(fang)量(liang),混(hun)勻,灌(guan)裝,密(mi)封(feng),滅菌(jun),得到本(ben)發(fa)明(ming)(ming)含(han)有伊(yi)維(wei)菌(jun)素和(he)(he)吡(bi)(bi)喹(kui)酮的(de)獸用(yong)(yong)復方(fang)(fang)混(hun)懸注射液(ye)。本(ben)發(fa)明(ming)(ming)主要(yao)用(yong)(yong)于防治家(jia)畜吸蟲(chong)(chong)、絳蟲(chong)(chong)、線蟲(chong)(chong)和(he)(he)體(ti)外寄生蟲(chong)(chong)引起的(de)混(hun)合(he)感染。
GMD2000系列高(gao)(gao)剪切高(gao)(gao)速吡喹(kui)酮混懸液研磨分散機具有非常高的(de)(de)剪切(qie)速度(du)(du)和(he)剪切(qie)力,粒徑微米(mi)級0.2-2μm,可以確保高速分(fen)散(san)乳(ru)化(hua)的(de)(de)穩定性。該設備可以適用于(yu)各種(zhong)分(fen)散(san)乳(ru)化(hua)工(gong)藝,也可用于(yu)生產包括對(dui)乳(ru)狀液,懸浮液和(he)膠體(ti)(ti)的(de)(de)均質(zhi)混合。混懸液分(fen)散(san)乳(ru)化(hua)機由定/轉子系統生的(de)(de)剪切(qie)力使得溶質(zhi)轉移速度(du)(du)增加,從(cong)而使單(dan)一分(fen)子和(he)宏觀分(fen)子媒介的(de)(de)分(fen)解(jie)加速。
高剪切高速研磨分散機運(yun)行(xing)原理:
混懸液(ye)研磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)在(zai)電動(dong)機(ji)的(de)高速(su)(su)(su)轉(zhuan)(zhuan)動(dong)下物(wu)料(liao)從進口處直接進入混懸液(ye)破碎(sui)(sui)(sui)區(qu),通過(guo)一種特殊粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)裝置,將流體中(zhong)的(de)一些大粉(fen)(fen)團、粘塊、團塊等大小(xiao)顆(ke)粒(li)(li)迅速(su)(su)(su)破碎(sui)(sui)(sui),然后(hou)吸(xi)入剪(jian)切粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)區(qu),在(zai)十分(fen)(fen)狹(xia)窄的(de)工(gong)作(zuo)過(guo)道內由于轉(zhuan)(zhuan)子(zi)刀片(pian)與定子(zi)刀片(pian)相對高速(su)(su)(su)切割從而產(chan)生(sheng)強(qiang)烈(lie)摩擦及研磨(mo)破碎(sui)(sui)(sui)等。在(zai)機(ji)械運動(dong)和(he)離心力(li)的(de)作(zuo)用下,將已粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)細化(hua)的(de)物(wu)料(liao)重新壓(ya)入精磨(mo)區(qu)進行研磨(mo)破碎(sui)(sui)(sui)。精磨(mo)區(qu)分(fen)(fen)三級(ji)(ji),越(yue)(yue)(yue)(yue)向(xiang)(xiang)外延伸(shen)(shen)一級(ji)(ji)磨(mo)片(pian)精度越(yue)(yue)(yue)(yue)高,齒距越(yue)(yue)(yue)(yue)小(xiao),線速(su)(su)(su)度越(yue)(yue)(yue)(yue)長,物(wu)料(liao)越(yue)(yue)(yue)(yue)磨(mo)越(yue)(yue)(yue)(yue)細,同時流體逐步(bu)向(xiang)(xiang)徑向(xiang)(xiang)作(zuo)曲線延伸(shen)(shen)。每(mei)(mei)到一級(ji)(ji)流體的(de)方向(xiang)(xiang)速(su)(su)(su)度瞬間(jian)發生(sheng)變化(hua),并且(qie)受到每(mei)(mei)分(fen)(fen)鐘上(shang)千萬次的(de)高速(su)(su)(su)剪(jian)切、強(qiang)烈(lie)摩擦、擠壓(ya)研磨(mo)、顆(ke)粒(li)(li)粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)等,在(zai)經過(guo)三個(ge)精磨(mo)區(qu)的(de)上(shang)千萬次的(de)高速(su)(su)(su)剪(jian)切、研磨(mo)粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)之(zhi)后(hou),從而產(chan) 生(sheng)液(ye)料(liao)分(fen)(fen)子(zi)鏈斷裂、顆(ke)粒(li)(li)粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)、液(ye)粒(li)(li)撕破等功(gong)效使物(wu)料(liao)充分(fen)(fen)達到分(fen)(fen)散、粉(fen)(fen)碎(sui)(sui)(sui)、乳化(hua)、均質、細化(hua)的(de)目的(de)。液(ye)料(liao)的(de)小(xiao)細度可達0.5um。
研磨(mo)分(fen)散機選型表
型(xing)號(hao) | 標準流量(liang) L/H | 輸出轉速 rpm | 標(biao)準線速(su)度 m/s | 馬(ma)達(da)功(gong)率 KW | 進口(kou)尺寸 | 出口(kou)尺(chi)寸 |
GMD2000/4 | 300-1,000 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
GMD2000/20 | 20,000 | 3,000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 40,000 | 1,500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
GMD2000/40 | 70,000 | 1,500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
研磨分散(san)機適(shi)用于制藥、食(shi)品(pin)、化(hua)工及其它行業的濕物料超微粉(fen)碎(sui),能起到各種半濕體及乳狀液(ye)物質(zhi)德粉(fen)碎(sui)、乳化(hua)、均(jun)質(zhi)和混合,主(zhu)要技術指標已達到國外(wai)同類產品(pin)的水(shui)平。
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