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頭孢噻肟鈉研磨分散機

簡要描述:

SGN頭孢噻肟(wo)鈉研磨分(fen)(fen)散(san)機(ji)(ji)(ji),轉(zhuan)速(su)(su)高達(da)14000rpm,剪切力強,是(shi)(shi)國內設備的(de)4-5倍。研磨分(fen)(fen)散(san)機(ji)(ji)(ji)是(shi)(shi)膠體磨和(he)分(fen)(fen)散(san)機(ji)(ji)(ji)的(de)一體化設備,磨頭結構(gou)、分(fen)(fen)散(san)盤的(de)結構(gou),也更適合細(xi)胞(bao)破碎、細(xi)胞(bao)破壁。采用博格曼雙端(duan)面機(ji)(ji)(ji)械密封(feng),并配(pei)有機(ji)(ji)(ji)封(feng)冷(leng)卻系統,可供(gong)工業化生產24小(xiao)時運(yun)行。分(fen)(fen)體式結構(gou),通過皮(pi)帶提速(su)(su),可根據調節(jie)轉(zhuan)速(su)(su),滿足不(bu)(bu)同(tong)細(xi)胞(bao)破碎要求,合適的(de)轉(zhuan)速(su)(su),合理的(de)剪切力不(bu)(bu)易導(dao)致產品(pin)變性失活。

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頭孢噻肟鈉研磨分散機

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頭(tou)孢噻肟鈉適(shi)應癥

適用于敏感(gan)(gan)細菌所致的肺炎(yan)及其他(ta)下呼(hu)吸道感(gan)(gan)染(ran)、尿路感(gan)(gan)染(ran)、腦膜炎(yan)、敗(bai)血癥、腹腔感(gan)(gan)染(ran)、盆腔感(gan)(gan)染(ran)、皮膚軟組織感(gan)(gan)染(ran)、骨和關(guan)節感(gan)(gan)染(ran)等。頭孢噻肟可以作為小(xiao)兒腦膜炎(yan)的選用藥(yao)物(wu)。

用法(fa)用量

一(yi)日2~6g,分2~3次靜脈(mo)注(zhu)射或靜脈(mo)滴注(zhu);嚴重感染者每6~8小時2~3g,一(yi)日zui高劑量(liang)不超過12g。治療無并發癥(zheng)的肺炎鏈(lian)球菌肺炎或急(ji)性尿路感染,每12小時1g。
新(xin)生(sheng)兒(er)日(ri)齡小(xiao)于(yu)等于(yu)7日(ri)者(zhe)每12小(xiao)時50mg/kg,出生(sheng)大于(yu)7日(ri)者(zhe),每8小(xiao)時50mg/kg。治療腦膜炎患者(zhe)劑量可增至每6小(xiao)時75mg/kg,均以靜脈(mo)給藥(yao)。
嚴重腎功(gong)能減(jian)(jian)退病人應(ying)(ying)用本品時(shi)(shi)須適(shi)當減(jian)(jian)量(liang)。血(xue)(xue)(xue)清肌(ji)酐(gan)值超(chao)過(guo)424μmol/L(4.8mg)或肌(ji)酐(gan)清除率低于20ml/分時(shi)(shi),本品的維持(chi)(chi)量(liang)應(ying)(ying)減(jian)(jian)半;血(xue)(xue)(xue)清肌(ji)酐(gan)超(chao)過(guo)751μmol/L(8.5mg)時(shi)(shi),維持(chi)(chi)量(liang)為正常(chang)量(liang)的1/4。需血(xue)(xue)(xue)液(ye)透(tou)析者(zhe)一日0.5~2g。但在透(tou)析后(hou)應(ying)(ying)加(jia)用1次劑量(liang)。

 

     SGN頭孢(bao)噻肟(wo)鈉研磨分(fen)散機(ji),轉(zhuan)速(su)(su)高達14000rpm,剪切(qie)力(li)強,是國內設備的(de)4-5倍。研磨分(fen)(fen)散(san)機是膠(jiao)體磨和分(fen)(fen)散(san)機的(de)一體化(hua)設備,磨頭結(jie)構(gou)、分(fen)(fen)散(san)盤的(de)結(jie)構(gou),也更適合(he)(he)細胞(bao)破(po)碎(sui)、細胞(bao)破(po)壁。采用(yong)博格曼雙端面機械密(mi)封,并配有機封冷卻系統,可供工業化(hua)生產24小時運行。分(fen)(fen)體式結(jie)構(gou),通(tong)過皮帶提速(su)(su),可根(gen)據調節轉(zhuan)速(su)(su),滿足不同細胞(bao)破(po)碎(sui)要求,合(he)(he)適的(de)轉(zhuan)速(su)(su),合(he)(he)理的(de)剪切(qie)力(li)不易導致產品變性失(shi)活。

分散機的結構及特點】

研磨(mo)式分散(san)機(ji)是由(you)錐體磨(mo),分散(san)機(ji)組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三(san)級鋸(ju)齒突(tu)起(qi)和凹(ao)槽。定子可(ke)以(yi)無限制的被調整到(dao)所需要的與轉子之間的距離。在(zai)增強的流體湍流下,凹(ao)槽在(zai)每級都可(ke)以(yi)改(gai)變方向。

       第二(er)級由轉(zhuan)定子組成。分散頭的(de)(de)設計也(ye)很好(hao)地(di)滿足不同粘度的(de)(de)物(wu)質以(yi)及顆粒粒徑的(de)(de)需要。

       GMD2000系列研磨分散機的特(te)點:

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jing)過的時(shi)候,形成(cheng)的摩(mo)擦(ca)力(li)就比(bi)較劇烈(lie),結果就是(shi)通常所說的濕磨(mo)

②   定轉子(zi)被制成圓椎(zhui)形,具有精細度遞升的三級鋸齒(chi)突起和凹槽。

③   定(ding)子可(ke)以無限制的(de)被調整到所需要的(de)與轉子之(zhi)間(jian)的(de)距離

④   在(zai)增強的流體湍流下,凹槽(cao)在(zai)每級都可以改(gai)變方向。

⑤   高質量的表(biao)面(mian)拋光和(he)結構材料,可(ke)以滿足不同行業的多種要求(qiu)。

型號

標(biao)準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標(biao)準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出(chu)口(kou)尺寸(cun)

GMD2000/4

300-1,000

9,000

23

2.2

DN25

DN15

GMD2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40

DN32

GMD2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50

DN50

GMD2000/20

20,000

3,000

23

37

DN80

DN65

GMD2000/30

40,000

1,500

23

55

DN150

DN125

GMD2000/40

70,000

1,500

23

90

DN150

DN125

 

頭(tou)孢噻肟(wo)鈉研磨(mo)分(fen)散(san)機信息(xi)來(lai)源于www.sgnprocess。。com

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