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薄膜漿料高剪切研磨分散機

簡要描述:

薄膜漿料剪(jian)切(qie)(qie)研磨(mo)(mo)分(fen)散(san)機,銦錫氧化物剪(jian)切(qie)(qie)研磨(mo)(mo)分(fen)散(san)機,高剪(jian)切(qie)(qie)研磨(mo)(mo)分(fen)散(san)設(she)備(bei),導電聚合(he)物研磨(mo)(mo)分(fen)散(san)設(she)備(bei),德國(guo)進口高剪(jian)切(qie)(qie)研磨(mo)(mo)設(she)備(bei),高轉速研磨(mo)(mo)分(fen)散(san)設(she)備(bei),薄膜漿料高剪(jian)切(qie)(qie)研磨(mo)(mo)分(fen)散(san)機

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薄膜漿料高剪切研磨分散機

一、產品關鍵詞

薄膜(mo)漿料剪切研(yan)磨分(fen)(fen)散機(ji),銦錫氧(yang)化物剪切研(yan)磨分(fen)(fen)散機(ji),高剪切研(yan)磨分(fen)(fen)散設(she)備(bei)(bei),導電(dian)聚(ju)合物研(yan)磨分(fen)(fen)散設(she)備(bei)(bei),德國(guo)進口高剪切研(yan)磨設(she)備(bei)(bei),高轉速研(yan)磨分(fen)(fen)散設(she)備(bei)(bei)

 

二、研磨分散機的設計(ji)

SGN薄膜漿料高剪切研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

LED已廣泛應用于高效固態照(zhao)(zhao)明(ming)(ming)領域中,如顯示屏、汽車用燈(deng)、背(bei)光源、交通信號燈(deng)、景(jing)觀照(zhao)(zhao)明(ming)(ming)等。

ITO是一(yi)種(zhong)-氧化(hua)銦(yin)錫,ITO結構存(cun)在以下缺陷。出(chu)光(guang)需要從薄膜(mo)透射出(chu)去,使(shi)出(chu)光(guang)強(qiang)度不(bu)高。

可以通(tong)過研磨設(she)備將其聚合(he)物進行細(xi)化(hua),均勻分(fen)散,這也就可以達(da)到混合(he)均勻細(xi)化(hua)的效果,可以順利(li)通(tong)過過濾網,即達(da)要求。

三、研磨分散機(ji)的結構

薄膜漿料高剪切研磨分散機特別(bie)適合于需要研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散均(jun)質(zhi)一步(bu)到(dao)位的(de)(de)物料(liao)。研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)為立(li)式(shi)分(fen)(fen)體結構(gou),精密的(de)(de)零部(bu)件配合運(yun)轉平穩(wen),運(yun)行(xing)(xing)噪音在73DB以下。同時采用(yong)德國博格曼雙(shuang)端面機(ji)械(xie)密封,并通冷(leng)媒對密封部(bu)分(fen)(fen)進行(xing)(xing)冷(leng)卻,把泄露概率(lv)降到(dao)低,保(bao)證機(ji)器連續24小(xiao)時不停機(ji)運(yun)行(xing)(xing)。

(價格電議,劉(liu)-先-生-1-3-6-8-1-6-7-9-7-4-0,公司有樣機可提供免(mian)費實驗(yan)!)

 

四、GMD2000系列研磨分散機的結構(gou)

研磨式分(fen)散機(ji)是由錐體磨,分(fen)散機(ji)組合而(er)成的高科技產(chan)品。

第yi級(ji)由具有精細(xi)度(du)遞升的三級(ji)鋸齒突起和凹(ao)槽(cao)。定(ding)子(zi)可以(yi)(yi)無限制的被調整到所(suo)需要的與(yu)轉子(zi)之間(jian)的距離。在(zai)增強的流體湍流下,凹(ao)槽(cao)在(zai)每(mei)級(ji)都(dou)可以(yi)(yi)改變方向。

 

 

第2級由轉(zhuan)定子組成。

分散頭(tou)的(de)(de)(de)設計也很(hen)(hen)好地滿足(zu)不(bu)同粘度的(de)(de)(de)物質以及顆粒(li)粒(li)徑的(de)(de)(de)需(xu)要(yao)。在(zai)(zai)(zai)線式的(de)(de)(de)定(ding)子(zi)(zi)和(he)(he)轉(zhuan)子(zi)(zi)(乳化頭(tou))和(he)(he)批次(ci)式機器(qi)(qi)的(de)(de)(de)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)頭(tou)設計的(de)(de)(de)不(bu)同主要(yao)是(shi)(shi)(shi)因(yin)為 在(zai)(zai)(zai)對(dui)輸送性的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)方面,特別(bie)要(yao)引起注意的(de)(de)(de)是(shi)(shi)(shi):在(zai)(zai)(zai)粗精度、中等(deng)精度、細精度和(he)(he)其他一些工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)頭(tou)類(lei)型之間的(de)(de)(de)區(qu)別(bie)不(bu)光是(shi)(shi)(shi)轉(zhuan)子(zi)(zi)齒的(de)(de)(de)排列,還有(you)一個(ge)很(hen)(hen)重要(yao)的(de)(de)(de)區(qu)別(bie)是(shi)(shi)(shi) 不(bu)同工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)頭(tou)的(de)(de)(de)幾何學(xue)特征(zheng)(zheng)不(bu)一樣。狹(xia)槽數(shu)、狹(xia)槽寬度以及其他幾何學(xue)特征(zheng)(zheng)都(dou)能(neng)改變定(ding)子(zi)(zi)和(he)(he)轉(zhuan)子(zi)(zi)工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)頭(tou)的(de)(de)(de)不(bu)同功能(neng)。根據以往的(de)(de)(de)慣例,依據以前的(de)(de)(de)經驗工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)頭(tou)來(lai)滿 足(zu)一個(ge)具體(ti)的(de)(de)(de)應用。在(zai)(zai)(zai)大多(duo)數(shu)情況下,機器(qi)(qi)的(de)(de)(de)構造是(shi)(shi)(shi)和(he)(he)具體(ti)應用相匹(pi)配的(de)(de)(de),因(yin)而它對(dui)制造出zui終產品是(shi)(shi)(shi)很(hen)(hen)重要(yao)。當不(bu)確(que)定(ding)一種工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)頭(tou)的(de)(de)(de)構造是(shi)(shi)(shi)否滿足(zu)預期的(de)(de)(de)應用。

GMD2000研磨(mo)分(fen)散機(ji)為(wei)立式分(fen)體(ti)結構,有(you)一(yi)(yi)定(ding)輸送(song)能力,可(ke)以處理高固含量有(you)一(yi)(yi)定(ding)粘稠度物(wu)料(liao)(liao),GM2000設計了符(fu)合漿(jiang)液(ye)流體(ti)特(te)性的特(te)殊(shu)轉(zhuan)子,進行物(wu)料(liao)(liao)的推動輸送(song);所有(you)與(yu)物(wu)料(liao)(liao)接觸部位均為(wei)316L不(bu)(bu)銹(xiu)鋼(gang),機(ji)座采用304不(bu)(bu)銹(xiu)鋼(gang);特(te)殊(shu)要(yao)求(qiu)如:硬度較大物(wu)料(liao)(liao),對鐵雜質要(yao)求(qiu)嚴苛的物(wu)料(liao)(liao),管道有(you)一(yi)(yi)定(ding)壓(ya)力并且需不(bu)(bu)間斷運轉(zhuan)的工況,可(ke)選磨(mo)頭噴涂碳化物(wu)或陶瓷;GMD2000改良型(xing)膠體(ti)磨(mo)腔體(ti)外有(you)夾(jia)套設計,可(ke)通冷卻或者升(sheng)溫介質。

五、研(yan)磨分散機的特點(dian)

1、 線速度很(hen)高,剪(jian)切間(jian)隙非常(chang)小,當(dang)物料經過的(de)時(shi)候,形(xing)成的(de)摩擦力就比較劇烈,結果就是通常(chang)所說的(de)濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形(xing),具有精細度遞升(sheng)的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子(zi)可以無限制(zhi)的被調(diao)整到所需要的與(yu)轉子(zi)之(zhi)間(jian)的距離

4、 在(zai)增(zeng)強的流體湍流下,凹槽(cao)在(zai)每級都可以改變方向(xiang)。

5、 高質量的表面拋光(guang)和(he)結(jie)構材料,可以滿足(zu)不(bu)同行業(ye)的多種要求。

 

產品相關關鍵字: 高剪切研磨分散設備 導電聚合物研磨分散機 薄膜漿料研磨分散機

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