（價格電議(yi)，錢，）

GMSD2000/4納米二氧化硅研磨分散機，納米二氧化硅分散機，納米研磨分散機，納米分散機，二氧化硅分散機，德國納米分散機，納米高速分散機

納米二氧化硅分(fen)(fen)散(san)在(zai)多個領域都有著(zhu)重要的(de)(de)應用，如：改(gai)性(xing)樹脂，改(gai)性(xing)紡織(zhi)材料，改(gai)性(xing)涂料，改(gai)性(xing)橡膠等(deng)等(deng)。改(gai)性(xing)的(de)(de)效(xiao)果(guo)取(qu)決于(yu)分(fen)(fen)散(san)的(de)(de)效(xiao)果(guo)，粒徑(jing)越(yue)(yue)小(xiao)分(fen)(fen)散(san)越(yue)(yue)均勻(yun)，分(fen)(fen)散(san)效(xiao)果(guo)就越(yue)(yue)好(hao)。SGN研磨(mo)分(fen)(fen)散(san)機*的(de)(de)結構(gou)，全新(xin)的(de)(de)技術(shu)，專業(ye)應對于(yu)納米級(ji)物料的(de)(de)分(fen)(fen)散(san)，先研磨(mo)后分(fen)(fen)散(san)，避免團聚，分(fen)(fen)散(san)效(xiao)果(guo)好(hao)。

對于納米(mi)(mi)的(de)物料(liao)分(fen)(fen)散一直是(shi)人們關注的(de)熱點，納米(mi)(mi)分(fen)(fen)散存在(zai)著難以解決的(de)問題，納米(mi)(mi)物料(liao)分(fen)(fen)散到流體(ti)物質(zhi)當中容(rong)易形(xing)成二級(ji)團聚體(ti)，導致(zhi)物料(liao)粒徑(jing)變大，難以分(fen)(fen)散。面對這種情況(kuang)，SGN研(yan)發出新(xin)型設備-研(yan)磨分(fen)(fen)散機，應對納米(mi)(mi)物質(zhi)的(de)分(fen)(fen)散問題。并有著廣(guang)泛的(de)實例(li)，如納米(mi)(mi)級(ji)白炭黑的(de)分(fen)(fen)散，納米(mi)(mi)級(ji)石墨(mo)烯的(de)分(fen)(fen)散，都在(zai)使用SGN研(yan)磨分(fen)(fen)散機進(jin)行分(fen)(fen)散處(chu)理，*。

（價格電議，錢(qian)，）

GMSD2000/4納米二氧化硅研磨分散機是SGN（上(shang)海）公司經(jing)過(guo)研(yan)究(jiu)剛(gang)剛(gang)研(yan)發出來(lai)的(de)一(yi)款新型(xing)產品，該機(ji)特別適(shi)合于需要研(yan)磨(mo)(mo)分散(san)乳(ru)(ru)(ru)(ru)化(hua)均質(zhi)一(yi)步到位(wei)的(de)物(wu)(wu)料(liao)。我(wo)們(men)(men)將三級高剪切均質(zhi)乳(ru)(ru)(ru)(ru)化(hua)機(ji)進(jin)(jin)行(xing)改裝，我(wo)們(men)(men)將三級變跟為(wei)一(yi)級，然后(hou)在(zai)乳(ru)(ru)(ru)(ru)化(hua)頭(tou)上(shang)面加配了(le)膠體(ti)磨(mo)(mo)磨(mo)(mo)頭(tou)，使(shi)物(wu)(wu)料(liao)可以先經(jing)過(guo)膠體(ti)磨(mo)(mo)細化(hua)物(wu)(wu)料(liao)，然后(hou)再經(jing)過(guo)乳(ru)(ru)(ru)(ru)化(hua)機(ji)將物(wu)(wu)料(liao)分散(san)乳(ru)(ru)(ru)(ru)化(hua)均質(zhi)。膠體(ti)磨(mo)(mo)可根(gen)據物(wu)(wu)料(liao)要求進(jin)(jin)行(xing)更換（我(wo)們(men)(men)提供(gong)了(le)2P，2G，4M，6F，8SF等五(wu)種乳(ru)(ru)(ru)(ru)化(hua)頭(tou)供(gong)客戶選擇）。

納米研磨分散機(ji)(ji)的結(jie)構：研磨式分散機(ji)(ji)是由錐體磨,分散機(ji)(ji)組合而成(cheng)的高(gao)科技產(chan)品。

*級由(you)具有精細度遞(di)升的三級鋸齒突起和凹(ao)槽。定子(zi)可以(yi)無限制的被調整到(dao)所需要(yao)的與轉子(zi)之間的距離。在(zai)增(zeng)強(qiang)的流體湍(tuan)流下，凹(ao)槽在(zai)每級都可以(yi)改(gai)變(bian)方(fang)向(xiang)。
 

第二(er)級(ji)由轉(zhuan)(zhuan)定(ding)子(zi)組(zu)成。分散頭(tou)(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)設計(ji)也(ye)很(hen)好地滿足不(bu)(bu)(bu)(bu)同粘度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)物質以(yi)及(ji)(ji)顆粒粒徑的(de)(de)(de)(de)(de)需要(yao)(yao)。在線式(shi)的(de)(de)(de)(de)(de)定(ding)子(zi)和(he)(he)(he)轉(zhuan)(zhuan)子(zi)（乳化頭(tou)(tou)）和(he)(he)(he)批次(ci)式(shi)機(ji)(ji)器的(de)(de)(de)(de)(de)工作(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)設計(ji)的(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)(bu)(bu)(bu)同主要(yao)(yao)是(shi)因(yin)為 在對輸送(song)性(xing)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求方面，特別要(yao)(yao)引起(qi)注(zhu)意的(de)(de)(de)(de)(de)是(shi)：在粗精度(du)、中等(deng)精度(du)、細精度(du)和(he)(he)(he)其他一些工作(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)類型之(zhi)間(jian)的(de)(de)(de)(de)(de)區(qu)別不(bu)(bu)(bu)(bu)光是(shi)轉(zhuan)(zhuan)子(zi)齒(chi)的(de)(de)(de)(de)(de)排列，還有(you)一個很(hen)重要(yao)(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)區(qu)別是(shi) 不(bu)(bu)(bu)(bu)同工作(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)幾(ji)(ji)何(he)學(xue)特征不(bu)(bu)(bu)(bu)一樣。狹槽數、狹槽寬度(du)以(yi)及(ji)(ji)其他幾(ji)(ji)何(he)學(xue)特征都能改變(bian)定(ding)子(zi)和(he)(he)(he)轉(zhuan)(zhuan)子(zi)工作(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)不(bu)(bu)(bu)(bu)同功能。根據以(yi)往(wang)的(de)(de)(de)(de)(de)慣例，依據以(yi)前(qian)的(de)(de)(de)(de)(de)經驗(yan)工作(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)來滿 足一個具(ju)體的(de)(de)(de)(de)(de)應(ying)(ying)用(yong)。在大多(duo)數情況下(xia)，機(ji)(ji)器的(de)(de)(de)(de)(de)構(gou)造(zao)是(shi)和(he)(he)(he)具(ju)體應(ying)(ying)用(yong)相匹配的(de)(de)(de)(de)(de)，因(yin)而它(ta)對制造(zao)出zui終(zhong)產品是(shi)很(hen)重要(yao)(yao)。當不(bu)(bu)(bu)(bu)確定(ding)一種工作(zuo)(zuo)頭(tou)(tou)的(de)(de)(de)(de)(de)構(gou)造(zao)是(shi)否滿足預期的(de)(de)(de)(de)(de)應(ying)(ying)用(yong)。

GMSD2000/4納米二氧化硅研磨分散機的特點：
① 線速度很高(gao)，剪(jian)切(qie)間隙非(fei)常(chang)小(xiao)，當(dang)物(wu)料經(jing)過的(de)時候(hou)，形成的(de)摩擦力就比較(jiao)劇烈，結果就是通常(chang)所說(shuo)的(de)濕磨。
② 定(ding)轉子被(bei)制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸(ju)齒突(tu)起和凹槽。
③ 定子可(ke)以無限(xian)制的(de)被調整到所需(xu)要的(de)與轉子之間(jian)的(de)距離
④ 在增(zeng)強的流(liu)體湍流(liu)下(xia)，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表(biao)面拋(pao)光和結(jie)構材料，可以滿足(zu)不同行業(ye)的多種要求(qiu)。
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