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  • GMD2000/4頭孢克洛混懸液研磨分散機
    頭孢克洛混懸液研磨分散機

    GMD2000系列(lie)頭(tou)孢(bao)克(ke)洛混懸液研磨分散(san)(san)機具有非常高的剪切速度(du)和剪切力,粒(li)徑微米級(ji)0.2-2μm,可(ke)以確保高速分散(san)(san)乳(ru)(ru)化的穩定性。該設(she)備可(ke)以適用(yong)于(yu)各(ge)種分散(san)(san)乳(ru)(ru)化工藝,也可(ke)用(yong)于(yu)生(sheng)產包括對乳(ru)(ru)狀液,懸浮液和膠體的均質(zhi)混合(he)。德國進口分散(san)(san)乳(ru)(ru)化機由定/轉子(zi)(zi)系統生(sheng)的剪切力使得溶(rong)質(zhi)轉移速度(du)增(zeng)加,從而使單一(yi)分子(zi)(zi)和宏觀分子(zi)(zi)媒介的分解加速。

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  • GMD2000/4中成藥管線式研磨分散機
    中成藥管線式研磨分散機

    中成藥管線式(shi)研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散(san)(san)(san)機是(shi)一(yi)款集研(yan)磨(mo)和分(fen)(fen)散(san)(san)(san)一(yi)體(ti)(ti)化(hua)的設備,是(shi)一(yi)項新的技術(shu)革新。研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散(san)(san)(san)機是(shi)將膠體(ti)(ti)磨(mo)(錐(zhui)體(ti)(ti)磨(mo))+高剪切(qie)分(fen)(fen)散(san)(san)(san)機一(yi)體(ti)(ti)化(hua)的設備,先研(yan)磨(mo)后分(fen)(fen)散(san)(san)(san),物(wu)料(liao)(liao)(liao)研(yan)磨(mo)后又(you)瞬(shun)間(jian)(jian)進行分(fen)(fen)散(san)(san)(san),避免了物(wu)料(liao)(liao)(liao)的二次團聚。 膠體(ti)(ti)磨(mo)和分(fen)(fen)散(san)(san)(san)機的一(yi)體(ti)(ti)化(hua)設計相對于(yu)膠體(ti)(ti)磨(mo)和分(fen)(fen)散(san)(san)(san)機的串(chuan)聯而言(yan)更具優勢。串(chuan)聯的話存在時間(jian)(jian)差,當物(wu)料(liao)(liao)(liao)通過(guo)膠體(ti)(ti)磨(mo)之后,磨(mo)細(xi)后物(wu)料(liao)(liao)(liao)會(hui)出(chu)現抱團的現象(xiang),再(zai)經過(guo)分(fen)(fen)散(san)(san)(san)機分(fen)(fen)散(san)(san)(san),效果不是(shi)很好。而GMD研(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散(san)(san)(san)機的話,物(wu)料(liao)(liao)(liao)磨(mo)細(xi)后

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  • GMD2000/4轉移因子研磨分散機
    轉移因子研磨分散機

    【SGN轉(zhuan)(zhuan)移(yi)因(yin)子(zi)研磨分(fen)散機的簡介(jie)】 高剪切研磨分(fen)散機轉(zhuan)(zhuan)移(yi)因(yin)子(zi)膠體(ti)(ti)(ti)磨是專門為(wei)膠體(ti)(ti)(ti)溶液生(sheng)產所(suo)設計,特別是那些需要很(hen)好(hao)乳化和分(fen)散效(xiao)果(guo)(guo)的膠體(ti)(ti)(ti)生(sheng)產。GM2000的線速度(du)很(hen)高,剪切間隙非常(chang)小(xiao),這樣當物(wu)料(liao)經過的時候,形成(cheng)的摩擦力就比較劇烈,結果(guo)(guo)就是通常(chang)所(suo)說的濕磨。定轉(zhuan)(zhuan)子(zi)被制成(cheng)圓椎形,具有(you)精細度(du)遞升的三級鋸(ju)齒突(tu)起(qi)和凹槽。定子(zi)可以無限(xian)制的被調(diao)整到(dao)所(suo)需要的與轉(zhuan)(zhuan)子(zi)之間的距離。在(zai)增強的流(liu)(liu)體(ti)(ti)(ti)湍(tuan)流(liu)(liu)下(xia),凹槽在(zai)每級都可以改(gai)

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  • GMD2000/4高剪切除草劑研磨分散機
    高剪切除草劑研磨分散機

    高剪(jian)切除草(cao)劑(ji)(ji)研(yan)(yan)磨分散(san)機的一(yi)般生產(chan)工藝 通常是(shi)由液(ye)相構成,其(qi)中懸浮著(zhu)活性劑(ji)(ji)。配方中還包括一(yi)些添加劑(ji)(ji),如(ru)濕(shi)化劑(ji)(ji)、懸浮劑(ji)(ji)、消(xiao)泡劑(ji)(ji)等。粉體和(he)液(ye)體混合之后(hou),再進一(yi)步研(yan)(yan)磨,以達到要求(qiu)的細度(通常為5 um以下,用(yong)于噴涂),產(chan)品也有可(ke)能直接送入噴霧干燥機。

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  • GMD2000/4農藥水乳劑研磨分散機
    農藥水乳劑研磨分散機

    SGNGMD2000系列農藥水乳劑研(yan)磨分(fen)(fen)散機(ji)特別適(shi)合(he)于膠體溶液、超細懸(xuan)浮液和乳液的(de)生產(chan)。除了高轉(zhuan)速和靈活可調的(de)定(ding)轉(zhuan)子(zi)間隙(xi)外,GMD在摩擦狀(zhuang)態下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuan)子(zi)和定(ding)子(zi)之間有一個寬的(de)入口間隙(xi)和窄的(de)出口間隙(xi),在工作中(zhong),分(fen)(fen)散頭偏(pian)心運轉(zhuan)使溶液出現(xian)渦流,因此可以(yi)達到更好的(de)研(yan)磨分(fen)(fen)散的(de)效果。GMD2000整機(ji)采用(yong)幾何機(ji)構的(de)研(yan)磨定(ding)轉(zhuan)子(zi),的(de)表面(mian)處(chu)理和優質材料(liao),可以(yi)滿足(zu)不同行(xing)業的(de)多種需求。

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  • GMD2000/4腸溶性包衣高速研磨分散機
    腸溶性包衣高速研磨分散機

    腸(chang)溶性包衣(yi)(yi)(yi)高(gao)速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)(ji),包衣(yi)(yi)(yi)生(sheng)產設(she)備納米二(er)氧(yang)(yang)化鈦藥(yao)(yao)品包衣(yi)(yi)(yi)高(gao)速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)(ji),胃溶性包衣(yi)(yi)(yi)高(gao)速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)(ji),水溶性包衣(yi)(yi)(yi)高(gao)速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)(ji),醇溶性包衣(yi)(yi)(yi)高(gao)速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)(ji),醫藥(yao)(yao)級二(er)氧(yang)(yang)化鈦高(gao)速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)(ji),納米二(er)氧(yang)(yang)化鈦醫藥(yao)(yao)用高(gao)速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)(ji),藥(yao)(yao)品包衣(yi)(yi)(yi)高(gao)速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)分(fen)(fen)散機(ji)(ji)

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  • GM2000/4腸溶性包衣研磨分散機
    腸溶性包衣研磨分散機

    腸溶性(xing)包衣研(yan)(yan)磨(mo)分散機(ji)GM2000采用(yong)了三級錯齒磨(mo)頭(tou)定轉子,磨(mo)頭(tou)定轉子間隙在0.2-0.7之間,間隙可通過(guo)調節(jie)高速(su)(su)研(yan)(yan)磨(mo)機(ji)本身的調節(jie)柄來調節(jie)設備(bei)間隙,在轉速(su)(su)不變的情況(kuang)下,間隙越小(xiao),速(su)(su)膠體(ti)磨(mo)研(yan)(yan)磨(mo)、分散效果會越好。故(gu)名(ming)思(si)意,高速(su)(su)膠體(ti)磨(mo)有著(zhu)非比(bi)(bi)尋(xun)常(chang)的轉速(su)(su),SGN工程(cheng)師們通過(guo)改變皮帶輪的傳動(dong)比(bi)(bi)例(li),使原本只(zhi)有3000rpm的電機(ji),經過(guo)傳動(dong)后(hou)設備(bei)轉速(su)(su)可以高達(da)9000rpm。實踐證(zheng)明,在磨(mo)頭(tou)定轉子間隙不變的情況(kuang)下,

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  • GMD2000濕法超細研磨機
    濕法超細研磨機

    SGN濕(shi)法超細(xi)研磨(mo)機的(de)(de)特點 ①線速度(du)很高(gao),剪切間隙(xi)非常小,當物(wu)料(liao)經(jing)過的(de)(de)時候,形成(cheng)的(de)(de)摩擦(ca)力(li)就比較(jiao)劇(ju)烈(lie),結(jie)果就是(shi)通常所說的(de)(de)濕(shi)磨(mo)。 ②定(ding)轉子被制(zhi)成(cheng)圓椎形,具有精細(xi)度(du)遞升的(de)(de)三(san)級鋸齒突(tu)起和凹(ao)槽。 ③定(ding)子可(ke)以無(wu)限制(zhi)的(de)(de)被調整到所需要(yao)的(de)(de)與轉子之間的(de)(de)距離 ④在增強的(de)(de)流體湍流下,凹(ao)槽在每(mei)級都可(ke)以改(gai)變方向。 ⑤高(gao)質量(liang)的(de)(de)表面拋光(guang)和結(jie)構材料(liao),可(ke)以滿(man)足不同行(xing)業(ye)的(de)(de)多(duo)種要(yao)求。

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