一、產品關鍵詞

低(di)酒精魔芋(yu)粉研(yan)磨分(fen)散機，魔芋(yu)粉濕(shi)法(fa)研(yan)磨機，低(di)酒精濃度(du)濕(shi)法(fa)研(yan)磨機，立式濕(shi)法(fa)研(yan)磨分(fen)散機，德(de)國不銹鋼研(yan)磨機，低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機

二、低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機

低酒(jiu)精濃(nong)度濕(shi)法加(jia)工魔(mo)芋(yu)(yu)精粉的(de)(de)方(fang)法B、將(jiang)魔(mo)芋(yu)(yu)切(qie)分護色；-10℃～5%～5%～D、干(gan)燥(zao)處理(li)，該方(fang)法是在溫(wen)度為0℃的(de)(de)環境(jing)下對魔(mo)芋(yu)(yu)進行(xing)粉碎、研磨(mo)與分離(li)處理(li)，這樣只需使用濃(nong)度為15%的(de)(de)酒(jiu)精即可防止精粉粒(li)子發生過度溶(rong)脹或形成溶(rong)膠，其加(jia)工成本(ben)大(da)大(da)降低，適合在食品加(jia)工領域推廣(guang)應用。

所謂濕法(fa)(fa)加工(gong)(gong)(gong)魔芋(yu)精(jing)粉(fen)，是指在加工(gong)(gong)(gong)精(jing)粉(fen)的(de)(de)過(guo)程中采(cai)用(yong)(yong)保護(hu)(hu)(hu)(hu)性溶(rong)劑(ji)(ji)浸(jin)潰(kui)保護(hu)(hu)(hu)(hu)加工(gong)(gong)(gong)，使(shi)精(jing)粉(fen)不膨化、不褐(he)變(bian)，經粉(fen)碎、研(yan)磨、分離、干燥等工(gong)(gong)(gong)序制取濕法(fa)(fa)精(jing)粉(fen)全過(guo)程的(de)(de)方法(fa)(fa)。濕法(fa)(fa)加工(gong)(gong)(gong)采(cai)用(yong)(yong)的(de)(de)保護(hu)(hu)(hu)(hu)性溶(rong)液包括有(you)(you)機(ji)溶(rong)劑(ji)(ji)保護(hu)(hu)(hu)(hu)液和無機(ji)溶(rong)劑(ji)(ji)保護(hu)(hu)(hu)(hu)液，有(you)(you)機(ji)溶(rong)劑(ji)(ji)保護(hu)(hu)(hu)(hu)液主要(yao)指以食用(yong)(yong)酒精(jing)作為控(kong)溶(rong)劑(ji)(ji)為主配(pei)兌的(de)(de)保護(hu)(hu)(hu)(hu)液，無機(ji)溶(rong)劑(ji)(ji)保護(hu)(hu)(hu)(hu)液主要(yao)指以四(si)硼酸(suan)鈉)為主配(pei)兌的(de)(de)保護(hu)(hu)(hu)(hu)液，前者保護(hu)(hu)(hu)(hu)液成本較高，但精(jing)粉(fen)質量好(hao)，精(jing)粉(fen)產品用(yong)(yong)于醫藥、食品等各行業，后者保護(hu)(hu)(hu)(hu)液成本低，但加工(gong)(gong)(gong)的(de)(de)精(jing)粉(fen)不能(neng)食用(yong)(yong)，僅能(neng)作為工(gong)(gong)(gong)業用(yong)(yong)精(jing)粉(fen)。

三、研(yan)磨(mo)分散機的工(gong)藝(yi)

上海思峻的(de)研磨(mo)(mo)分散(san)機特別適合于需(xu)要研磨(mo)(mo)分散(san)均質一(yi)步到位的(de)物(wu)料。低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機為立式分體結構(gou)，精密(mi)的零部(bu)件(jian)配合運轉平(ping)穩，運行(xing)噪(zao)音在73DB以下。同時(shi)采用德國(guo)博格(ge)曼雙端面機(ji)械密(mi)封，并通冷(leng)媒對(dui)密(mi)封部(bu)分進行(xing)冷(leng)卻，把泄露概率降到低，保證機(ji)器連續24小時(shi)不停機(ji)運行(xing)。

GMD2000系列研磨(mo)分(fen)散(san)機(ji)(ji)(ji)的結構：研磨(mo)式分(fen)散(san)機(ji)(ji)(ji)是由錐(zhui)體磨(mo),分(fen)散(san)機(ji)(ji)(ji)組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒(chi)突起(qi)和凹(ao)槽。定子可以無(wu)限制的被調整(zheng)到所需(xu)要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下(xia)，凹(ao)槽在每(mei)級都可以改(gai)變方向。

第二(er)級由轉定子組成。分散頭(tou)(tou)的(de)設(she)計也(ye)很好地滿足(zu)不(bu)(bu)同粘度的(de)物質以(yi)(yi)及(ji)(ji)顆粒(li)粒(li)徑的(de)需要。在(zai)(zai)線(xian)式(shi)的(de)定子和(he)轉子（乳化頭(tou)(tou)）和(he)批(pi)次式(shi)機器(qi)的(de)工(gong)作頭(tou)(tou)設(she)計的(de)不(bu)(bu)同主要是(shi)因為 在(zai)(zai)對(dui)輸送性(xing)的(de)要求方(fang)面，特別(bie)要引起注意的(de)是(shi)：在(zai)(zai)粗精(jing)度、中等精(jing)度、細精(jing)度和(he)其他(ta)一(yi)些(xie)工(gong)作頭(tou)(tou)類型之間的(de)區別(bie)不(bu)(bu)光(guang)是(shi)轉子齒的(de)排列，還有一(yi)個很重(zhong)(zhong)要的(de)區別(bie)是(shi) 不(bu)(bu)同工(gong)作頭(tou)(tou)的(de)幾何(he)學特征(zheng)(zheng)不(bu)(bu)一(yi)樣。狹槽數、狹槽寬度以(yi)(yi)及(ji)(ji)其他(ta)幾何(he)學特征(zheng)(zheng)都能改變(bian)定子和(he)轉子工(gong)作頭(tou)(tou)的(de)不(bu)(bu)同功能。根(gen)據以(yi)(yi)往(wang)的(de)慣例(li)，依據以(yi)(yi)前(qian)的(de)經(jing)驗(yan)工(gong)作頭(tou)(tou)來滿 足(zu)一(yi)個具體(ti)的(de)應用。在(zai)(zai)大多數情況下，機器(qi)的(de)構造(zao)是(shi)和(he)具體(ti)應用相匹(pi)配(pei)的(de)，因而(er)它對(dui)制造(zao)出(chu)zui終產品是(shi)很重(zhong)(zhong)要。當(dang)不(bu)(bu)確定一(yi)種工(gong)作頭(tou)(tou)的(de)構造(zao)是(shi)否滿足(zu)預期的(de)應用。

四(si)、研磨分散(san)機的結構

GMD2000研磨(mo)分散機(ji)為(wei)立式分體(ti)(ti)結構，有(you)(you)一定輸(shu)送能力，可以(yi)處理高固(gu)含量有(you)(you)一定粘稠度物(wu)料(liao)，GM2000設計(ji)了符合漿液流體(ti)(ti)特性的(de)特殊(shu)轉子，進行(xing)物(wu)料(liao)的(de)推動輸(shu)送；所(suo)有(you)(you)與物(wu)料(liao)接(jie)觸部位均為(wei)316L不銹鋼，機(ji)座(zuo)采用304不銹鋼；特殊(shu)要(yao)求(qiu)如(ru)：硬度較大(da)物(wu)料(liao)，對鐵雜(za)質要(yao)求(qiu)嚴苛的(de)物(wu)料(liao)，管道有(you)(you)一定壓力并且需(xu)不間斷運轉的(de)工況，可選磨(mo)頭噴(pen)涂碳化物(wu)或陶瓷；GMD2000改良型(xing)膠(jiao)體(ti)(ti)磨(mo)腔體(ti)(ti)外有(you)(you)夾套設計(ji)，可通(tong)冷卻(que)或者(zhe)升溫介(jie)質。

五(wu)、研磨分散機的特點

1、 線速(su)度很高，剪切間隙非(fei)常小(xiao)，當(dang)物料(liao)經(jing)過的時(shi)候，形(xing)成的摩擦力(li)就比較劇烈(lie)，結果(guo)就是通(tong)常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具(ju)有精細度遞升的三級鋸齒突(tu)起和凹槽。

3、 定子(zi)可以無限制的(de)(de)被調整到所需要的(de)(de)與轉(zhuan)子(zi)之間的(de)(de)距離

4、 在(zai)增強的流體湍流下，凹槽在(zai)每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多(duo)種(zhong)要求。

六、從設備角度來分析，影響(xiang)分散效果(guo)因素有以下幾(ji)點(dian)：

1.研(yan)磨頭的(de)形式(shi)（批次(ci)式(shi)和連續式(shi)）（連續式(shi)比批次(ci)式(shi)要好）

2.研(yan)磨頭(tou)的剪(jian)切速率，（越大效果越好）

3.研(yan)磨的齒(chi)(chi)形(xing)結構（分為初齒(chi)(chi)、中齒(chi)(chi)、細(xi)齒(chi)(chi)、超細(xi)齒(chi)(chi)、越細(xi)齒(chi)(chi)效果越好）

4.物料在分(fen)散墻體的停留時間(jian)、研磨(mo)分(fen)散時間(jian)（可(ke)以(yi)看作同等電機，流量越小效果越好(hao)）

5.循環(huan)次數（越多效果(guo)越好，到設備的期限就不能再好了(le)。）

線速(su)度的(de)計算：

剪切速(su)率的定義是兩表面之(zhi)間液(ye)體層的相(xiang)對速(su)率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率(lv)取(qu)決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速(su)率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速(su) RPM  /   60

 所以(yi)轉速和分散(san)頭結構是影(ying)響分散(san)的一個(ge)zui重要(yao)因(yin)素，研(yan)磨分散(san)機的高轉速和剪(jian)切率對(dui)于獲(huo)得超(chao)細微(wei)懸浮液是zui重要(yao)的。

七(qi)、GMD2000系列研磨分散(san)機設備選型表

流量取決于設(she)置的間隙和被處理物料(liao)的特(te)性，可以被調節到zui大允許量的10%。